制藥純水設(shè)備嚴(yán)格要求不放水

　　制藥純水設(shè)備的應(yīng)用范圍:

　　1、半導(dǎo)體、單晶硅、集成電路、超大規(guī)模集成電路,顯象管、觸摸屏、液晶顯示,高精度線路板,光學(xué)、光電類器件,各種電子器件,微電子工業(yè)、IC 芯片封裝行業(yè),太陽能硅片清洗、LCD 清洗等2、醫(yī)藥行業(yè)用水,生物、生化實驗室用水,制藥行業(yè),無菌、無熱源注射用水、制劑工藝用水,醫(yī)院血液透析;用水、生化分析用水、輸液醫(yī)藥用水等;

　　3、熱電廠用水處理、冶金工業(yè)用水處理、航天工業(yè)、汽車工業(yè)等;

　　4、制取熱力、火力、渦輪發(fā)電鍋爐用水,廠礦企業(yè)中、低壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水等.

　　制藥純水設(shè)備專業(yè)生產(chǎn)高純水設(shè)備,高純水處理設(shè)備,高純水設(shè)備,EDI高純水設(shè)備,超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,超純水裝置,去離子超純水設(shè)備,反滲透超純水設(shè)備,工業(yè)超純水設(shè)備,小型超純水設(shè)備,大型超純水設(shè)備并且出水水質(zhì)符合純化水標(biāo)準(zhǔn)、符合GMP標(biāo)準(zhǔn)、美國ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國電子工業(yè)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)、電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)等,電阻率均可達(dá)到1-18兆,適合用于各個行業(yè),現(xiàn)貨供應(yīng),!